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光纖預制棒的發展趨勢

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光纖預制棒的發展趨勢

發布日期:2015-05-25 16:49 來源:http://www.railsbricks.net 點擊:

   從 20 世紀 70 年代末期開始規模生産光纖以來, 對光纖預制棒制造 技術的研究和完善改進就從來沒有間斷過。美國 AT&T(Lucent)發 明了改進的化學汽相沉積法(MCVD,Modified Chemical Vapor Deposition)工藝後,美國 Corning 公司随後開發出了适合光纖大規 模生産的管外汽相沉積法(OVD,Outside Vapor Deposition)工藝, 其後 OVD 工藝又有不斷改進,目前已發出第七代工藝,使生産效率和 生産成本大幅度降低;而日本 NT&T 在 OVD 的基礎上進行改進,推出 了汽相軸向沉積法 (VAD, Vapor Axial Deposition) 工藝; 法國 Alcatel 則利用高頻等離子技術開發出了先進的等離子體汽相沉積法(APVD, Advance Plasma Vapor Deposition)預制棒生産工藝;荷蘭 Philips 則開發了等離子體化學(PCVD,Plasma Chemical Vapor Deposition ) 工藝逼供成功地在生産中加以應用。  早期光纖預制棒制造技術采用一步法,目前,生産預制棒的工藝 均采取兩法,即先制造預制棒芯棒,然後在芯棒外采用不同技術制造 外包層,增加單根預制棒的可拉絲公裡數,以提高生産效率。一般認 為,芯棒的制造決定了光纖的傳輸性能,而外包層則決定光纖的制造 成本。在芯棒的制造技術中,MCVD 和 PCVD 稱為管内沉積工藝,OVD 和 VAD 屬于外沉積工藝;在外包層工藝中,外沉積技術是指 OVD 和 VAD,外噴技術主要指用等離子噴塗石英砂工藝。  目前,各種技術路線都有生産廠家在采用,所生産的光纖都能夠 符合國際标準,在市場上也有一定的競争力。随着市場對光纖産品需 求的多樣性,就要求生産廠家生産不同性能的、在經濟上具有競争力 的光纖産品滿足這種多樣化的需求。  現在市場上大量使用的普通 G.652 單模光纖, 對于長途幹線則采 用 G.655 光纖,局域網則采用數據光纖,但并不是任何一種工藝均能 最佳化生産所有的光纖品種。就生産 G.652 光纖而言,芯幫的外沉積 技術(DVD、VAD)優于内沉積技術(MCVD、PCVD),外沉積技術主要 優勢在于:不用價格很貴的合成石英管,沉積速率、沉積層數不會受 到襯低管直徑的限制,特别有利于以高沉積速率制造大型預制棒。此 外,外沉積技術還能生産 G.652 (C)低水峰光纖。就生産 G.655 光 纖而言,芯幫的管内沉積技術(PCVD 工藝活 MCVD 工藝)頗具優勢, 與 DVD、 VAD 相比的最大優點是: 可精确控制徑向折射率分布 (RIP) 。 而這一優點,特别有利于制造最新一代的通信光纖,例如大有效面積 光纖、局部色散平坦的大有效面積光纖、降低色散斜率的直波光纖等 等,這些光纖通常都是多包層的負責 RIP 結構,數據光纖已經新一代 的多模光纖的生産,采用 PCVD 工藝更具競争力。

相關标簽:光纖石英管

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